第436章 3D三栅极晶体管(2/2)

道：“浸润式光刻，经过我们的一段实验和论证，它的有效极限，应该就是22纳米。所以，极紫外光刻的研发已经提上了日程，我们只取得了很小的进展。之所以在这里提出来，也是向各位有需要的伙伴发出邀请，一起攻克这个难题。”

听到这话，凯文·卡尔心头一动，这是一个很好的信号。

唯一只需要考虑的，就是老家伙们，愿不愿意与华国展开合作。

英特尔的高管也长舒一口气。

如果说燧石科技又拿出来22纳米制程工艺，又完成了可以突破到10纳米甚至7纳米制程的极紫外光刻机，那将极大地影响英特尔接下来至少10年到20年的战略走向。

台上，顾松通过幻灯片呈现出了他最期待想看到的一个东西。

“诸位，这就是22纳米制程工艺下的3D三栅极晶体管示意图。”

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