&杂后的退火你们采用的是什么退火工艺？”
离子注入掺杂技术有个缺点，会对晶格造成损伤，因此在离子注入后需要进行退火处理来消除这些缺陷。
&们采用的是电子束退火工艺，我们同时也试验过激光退火工艺，但与激光退火相比，电子束退火束班均匀性较好，能量转换效率可达到50，而激光退火只有1，比它高多了。”
电子束退火是利用电子束照射半导体表面，使其中的离子注入层在极短的时间内达到很高的温度，从而实现消除损伤的目的。它的加热过程进行得非常快速，加热仅仅限于表面层，因而能减少某些副作用。
&种技术成熟了吗？”
&熟，完全的成熟。”邱明回答道，脸上充满了自豪的表情，又继续说道：“凌少，离子注入和电子束退火整套工艺，全部采用自动化处理，能够大大的减轻工人的劳动强度，整套设备只需2个人就可以轻松的完成，设备相当可靠。”
&太好了，有了这套设备，我们的芯片生产成本将会大幅降低，成品率也会大幅提高，生产效率也会成倍增加。什么时候可以完成定型生产？”经过这么长时间，投入了这么多的资金，终于看到些成果，凌世哲开始迫不及待的想要马上把这些设备投入使用。
邱明没有回答他的问题，而是在站在一旁一副欲言又止的样子，凌世哲很快注意到他的表情，问道：“怎么了，邱教授？”
见他问道，邱明不能不回答，说道：“凌少，我认为，现在还不忙把这套设备投入生产使用，到时可以在加拿大的芯片工厂安装一台进行实验性生产看看实际使用效果如何，如果有不合适的地方我们可以在修改完善，凌少你不是要在今年年底的时候，会再次的把芯片工厂升级到8微米制程工艺吗？现在离年底还有整整一年的时间，有了这一年的时间来检验这套设备完全够了，到时候我们利用工厂升级的时候在把他安装完成不是更好？“
凌世哲想了想说道：“我同意你的建议，行，就等一年再上。不过邱教授，根据摩尔定律，半导体技术是要等到18个月集成电路才会增加一倍，虽然我公司已经早早的开始了8微米甚至7微米工艺的研究，但年底就开始升级~~~~我估计他们还拿出来。”
&凌少我们可以这么做，建立一个小型的工艺实验性工厂，专门从事8微米制程工艺的研究，等技术成熟后，就把8微米这套工艺安装在一个芯片工厂中，等8微米工艺在工厂中运行没有任何问题，我们在把所有的工厂的生产线升级到8微米制程工艺，同时小型实验性工厂开始进行7微米以下工艺研发，凌少你看怎么样？”
凌世哲仔细想了想，发现按照这个办法来，很适合半导体发展的规律，打个比方来说，工艺实验室研究出8微米制程技术后，拿到实验性工厂开始生产，8微米芯片就可以小批量的上市销售，由于产量小，还是刚刚出来的，可以试试市场的反应，价格上可以卖到最高，先期就可以收回部分研发投入。
当实验室工厂没什么问题后，又转入一座标准型的工厂进行生产，这个时候市场上8微米的供货量加大，价格上在适当的下调部分，这个时候人们完全已经接受了8微米芯片。到时候所有的工厂都加入到8微米芯片的生产，大规模铺货。
如果人们不接受，到时候也可以根据市场的需求对芯片进行改进，这样一来不会产生新诞生的芯片不符合市场造成大规模的滞销，从而造成大规模的亏本，就算出现滞销也是极小规模的，因为还没进入标准工厂，还在试验工厂的时候就已经反映出新芯片到底符不符合市场的需求，符合就大规模生产，不符合可以随时叫停，并对将芯片进行改进，反正是试验工厂嘛，这点小损失还是能够承受得了的，再说了，我们还可以把这些芯片进行便宜处理嘛，这样一来就不会造成什么亏损了。
想通了这里面的关节，凌世哲当且同意了邱明的提议。
参观完了离子注入设备后，凌世哲又参观了其他试验项目，特别是分布式光刻机和电耦合高能等离子体刻蚀机，在刻蚀机研究室里面看到了王海华和克里斯托弗。
整个房间里面到处都是电缆和各种大大小小的机器设备，王海华和克里斯托弗站在一推仪器中间，周围十来个大学生和几个安布雷拉公司的工程师，还有一些工人在进进出出。
他们两人没有发现凌世哲的过来，两人的注意力全都放在面前的仪器上面，克里斯托弗手里拿着一张工艺图，看了又看，然后又对着仪器看了一遍，说道：“王，不行，还是不行，不是我们思路有问题，我们的方向是对的，设计上也没有问题，而是我们现在的硬件环境还达不到要求，我们唯一的办法只有等到硬件达到了要求，这个机器才能达到公司使用的标准。”
王海华知道克里斯托弗说得是对了，但他有点不甘心的说道：“我想试试有没有别的思路的可能。”
&王，这个是最正确的思路，别的都不行，有各种各样的问题，而且你看，boss上面提到的